中国国家电子超纯水规格GB/T1146.1-1997电子级水的技术指标应符合表中的规定。
级别/指标 | EW-I | EW-II |
电阻率MΩ.cm（25℃） | 18以上（95%时间）不低于17 | 15（95%时间）不低于13 |
硅≤µg/l | 2 | 10 |
>1µM微粒数≤个/ml | 0.1 | 5 |
细菌个数≤个/ml | 0.01 | 0.1 |
铜≤µg/l | 0.2 | 1 |
锌≤µg/l | 0.2 | 1 |
镍≤µg/l | 0.1 | 1 |
钠≤µg/l | 0.5 | 2 |
钾≤µg/l | 0.5 | 2 |
氯≤µg/l | 1 | 1 |
硝酸根≤µg/l | 1 | 1 |
磷酸根≤µg/l | 1 | 1 |
硫酸根≤µg/l | 1 | 1 |
总有机碳≤µg/l | 20 | 100 |
电子级超纯水设备常用工艺(水质符合美国ASTM标准，电子部超纯水水质标准（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四级)
1.预处理－反渗透－ 水箱－阳床－阴床－混合床－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－精制混床－精密过滤器－用水对象
2.预处理－一级反渗透－加药机（PH调节）－中间水箱－第二级反渗透（正电荷反渗膜）－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象
3.预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯化系统水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象
4.预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－精制混床－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象
电子级超纯水设备应用场合：
1.GMP纯化水半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路；
2.超纯材料和超纯化学试剂；
3.实验室和中试车间；
4.汽车、表面抛光处理；
5.其他高科技精微产品。
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